1）低压化学气相沉积中的多晶硅制备工艺中；
2）半导体刻蚀工艺。在这些生产工艺中往往用到或生成腐蚀性气体和研磨微粒；
3）除半导体工艺外的某些产生微粒的工艺，不希望微粒混入泵油中，而希望微粒排出泵外，则用一定型式的干式机械真空泵可以满足要求；
4）在化学工业、医药工业、食品工业中的蒸馏、干燥、脱泡、包装等，要防止有机溶剂造成污染，适合用干式真空泵；
5）用做一般无油清洁真空系统的前级泵，以防止油污染。
作者：konpair 发布时间：2020-09-26 10:16:42 浏览次数 :